日本High-NA EUV材料市場：ADEKAの先端フォトレジスト投資が金属酸化物レジスト、ポリマー結合型PAG、次世代半導体製造に新たなビジネス機会を創出
出典：ドリームニュース
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日本のHigh-NA EUV材料市場において、ADEKAが先端フォトレジストへの投資を行っています。この投資は、金属酸化物レジストやポリマー結合型PAG（プロジェクション・アシスト・ゲル）などの新しい材料の開発を促進し、次世代半導体製造における新たなビジネス機会を創出することを目指しています。これにより、半導体業界の技術革新が期待されます。
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